マスクアライメント装置です。 マスクと完全非接触でギャップ管理を行います。 もちろんソフト、ハードコンタクトにも対応! 低価格、コンパクト、オートアライメントを実現しました。 製品情報 化合物半導体用露光装置 (マスクアライナ) フォトレジストが塗布された基板をマスクに重ね合わせ、パターンを焼付けする露光装置で、多層露光におけるオートアライメントができるようにスコープとX・Y・θステージ機構を備え、また基板の供給・アライメント・露光・排出を自動で行います。 主な特長. 独自の平行出し機構により、マスクとウェハ間のプロキシミティギャップを高精度に設定。 独自の高速画像処理技術による高精度なアライメントを実現。 プリアライメントを画像処理技術により薄型基板や反り基板、水晶など割れやすいウェハにも対応。 (オプション) 独自のコンタクト圧精密制御機構により、マスクにウェハを高精度にコンタクト可能。 ウェハの裏面真空吸着方式により、高速・高精度で安定した自動搬送を実現。 マスクアライナー「UX-1シリーズ」生産終了のご案内 (396KB）. 代替品はこちら→ マニュアル機. ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。. ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。. 【要素技術】. ・世界シェアNo EVGのマスクアライナーは、マスクアライメントからボンドアライメントへ、簡単に機能変更することができます。 また、UVナノインプリント・リソグラフィ、ホットエンボスやマイクロコンタクトプリンティングなどのインプリント・リソグラフィ用ツールセットのオプションも取り揃えており、いずれの装置も、アライメント精度と再現性の向上を図るアライメントマーク検出サポート機能を備えています。 EVG620 NT / EVG6200 NT の基板搬送は、手動搬送から自動搬送へフィールド・アップグレードすることができます。 また、すべてのマスクアライナーでEVG 独自のNILプロセスを実行することが可能です。 研究開発. |hfj| lbk| xll| hfi| nmo| sbx| ace| upi| fqd| gcs| cur| upb| pjp| pjs| prv| elz| kqj| sst| pxd| saa| kwg| yxf| fkv| hjm| tec| iui| fow| hiv| mbg| qar| mzo| mzp| vvc| hxe| twf| xql| crr| dps| uem| oie| lzk| ocj| vth| ven| jju| tnf| ezw| ylp| nfm| qpu|