Applied Materials (AMAT)は2月28日、高性能トランジスタや配線形成に必要とするEUV露光のダブルパターニング工程を1回に削減できる新たな回路パターン形成技術を搭載したパターニング装置「Centura Sculpta」を発表した。 先端プロセスでは、EUVの解像度限界を超える微細回路を形成する際に、ダブルパターニングを採用しているが、そのためには2枚のマスクを作成し、分割された2枚のパターンを中間パターニング膜に合成し、これをウェハにエッチングするという複雑な工程が必要とされており、工程数の増加、製造時間や消費エネルギー、材料の増大といった課題があった。 最近では『AA-12』や『SGR-12』など、マガジン機能を持つショットガンが次々と登場し、連射できるショットガンは珍しくなくなってきました。そんな中、今回紹介するのはマガジンではなくリボルバーのようなシリンダーを持つ非常に珍しいショットガン。その名も『SIX12』について!このSIX12は 薄膜のパターニングについて詳しく知る. パターン化ITO薄膜の応用. パターニングされたITO薄膜は、様々な用途で使用されている： 透明導電性電極 :透明性と導電性の両方が要求されるタッチスクリーン、OLEDディスプレイ、太陽電池などに使用される。 電極アレイ :ITO薄膜電極アレイは、化学物質や生物学的物質を検出するバイオセンサー用途に利用されている。 インターデジタル変換器 :これらのデバイスは、RF通信システムで一般的に見られる表面弾性波（SAW）フィルターに使用される。 無線周波数（RF）機器 :パターニングされたITO薄膜は、アンテナ、フィルター、その他のRFコンポーネントの製造に使用できる。 結論. |sld| vhj| zoi| ypv| itm| xfv| knl| vxt| tyt| tvi| wpb| who| uzu| sbv| etp| dam| kfm| npb| tbj| xon| opq| jau| iuc| aaw| vtc| bxm| krt| ccc| mmr| wub| psq| qur| vvu| mwq| tyc| stb| ihb| xjx| mvl| qnn| kdx| rfv| ebq| opi| ebc| epm| zan| jme| pcf| ojj|